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小比表面積分析儀

簡(jiǎn)要描述:小比表面積分析儀:一款可應(yīng)用于微孔領(lǐng)域的多分析站全自動(dòng)物理吸附分析儀;對(duì)于微孔(0.7-2nm)、超微孔(0.35-0.7nm)及超小比表面(<1m2/g)樣品具有優(yōu)的測(cè)試精度,滿足科研及學(xué)術(shù)探討等多方面應(yīng)用需求。

  • 更新時(shí)間:2024-09-12
  • 產(chǎn)品型號(hào):kubo-x1000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 訪  問(wèn)  量:2026
詳細(xì)介紹

■ 產(chǎn)品介紹:

小比表面積分析儀是一款可應(yīng)用于微孔領(lǐng)域的多分析站全自動(dòng)物理吸附分析儀;對(duì)于微孔(0.7-2nm)、超微孔(0.35-0.7nm)及超小比表面(<1m2/g)樣品具有優(yōu)的測(cè)試精度,滿足科研及學(xué)術(shù)探討等多方面應(yīng)用需求。

小比表面積分析儀產(chǎn)品特點(diǎn):

1. 超快的微孔分析效率 Kubo-X1000具有3個(gè)并行分析站
Kubo-X1000擁有三個(gè)獨(dú)立并行的分析站,均可以實(shí)現(xiàn)超微孔、微孔、介孔、大孔、低比表面樣品的測(cè)試。三個(gè)分析位可同時(shí)工作,每個(gè)分析位獨(dú)立運(yùn)行,具有獨(dú)立的氣路控制系統(tǒng)和壓力探測(cè)系統(tǒng),不需要等待其他分析位完成當(dāng)前進(jìn)程再開(kāi)始下一進(jìn)程

2. 微孔分析性能 相對(duì)壓力P/P0在10-6-10-8區(qū)間內(nèi)可獲得準(zhǔn)確
對(duì)于微孔、超微孔樣品的比表面和孔徑測(cè)試要求,設(shè)備具有高的真空度和壓力探測(cè)能力。
Kubo-X1000在配置了領(lǐng)域內(nèi)好的硬件基礎(chǔ)上融合了多的核心技術(shù): 高真空雙穩(wěn)態(tài)閥體,壓力測(cè)試的B-ST技術(shù),真實(shí)的反饋每一次投氣后的吸附狀態(tài);死體積動(dòng)態(tài)校準(zhǔn)技術(shù),實(shí)現(xiàn)測(cè)試時(shí)間與死體積定量的動(dòng)態(tài)校準(zhǔn);PFC高精度壓力電控系統(tǒng)大大縮短真空時(shí)間,測(cè)試速度多可提升50%

3. 低比表面分析性能 多種AI智能判定模式及處理方案可選
市面上大部分儀器都是采用在主機(jī)上脫氣的方式,并且設(shè)置固定脫氣時(shí)間,不僅效率低,而且不能滿足大多數(shù)樣品的需求。Kubo-X1000配置獨(dú)立的樣品前處理器,獨(dú)立的樣品處理器,可以保障樣品分析的的同時(shí),進(jìn)行下一批次樣品的前處理工作,進(jìn)而提高儀器和人員的工作效率,儀器通過(guò)AI智能判定模式及多種樣品處理方案,真空抽離及升溫脫水,注氣保護(hù)等方式,使樣品達(dá)到制備要求。

小比表面積分析儀擺脫電腦控制,主機(jī)嵌入了穩(wěn)定的WINDOWS CE工控系統(tǒng),給用戶提供簡(jiǎn)潔明了的操作界面。一鍵式啟動(dòng),自動(dòng)測(cè)試并存儲(chǔ)數(shù)據(jù),內(nèi)置至少可用10年的存儲(chǔ)空間。隨時(shí)查看、調(diào)取以往數(shù)據(jù),預(yù)留USB接口,即時(shí)導(dǎo)出并打印??刂平缑婵蓪?shí)時(shí)顯示每個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)的信息并預(yù)測(cè)下一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)的位置,方便用戶查看運(yùn)行狀態(tài),實(shí)時(shí)顯示運(yùn)行進(jìn)度。

Kubo-X1000比表面及孔徑分析儀擁有強(qiáng)大的控制系統(tǒng),支持自定義分析模式(超微孔/微孔/介孔/比表面/常溫反應(yīng));支持自定義各模型的數(shù)據(jù)取點(diǎn)范圍;支持自定義投氣量;支持自定義吸/脫附平衡時(shí)間判定模式。方便用戶擴(kuò)展豐富的測(cè)試應(yīng)用。

技術(shù)參數(shù):

測(cè)試功能:吸附及脫附等溫線,BET/Langmuir比表面積,
BJH孔體積/孔面積/總孔容積/總孔面積分析,t-plot/MP/HK/SF/DR等微孔分析/可使用氬氣或二氧化碳對(duì)特殊微孔樣品進(jìn)行分析
測(cè)試范圍:比表面積≥0.0005m2/g;孔徑分析0.35nm-500nm
測(cè)試精度:±1%(≤1m2/g的樣品:±1.5%)
分析站:3個(gè)樣品分析口,1個(gè)P0實(shí)時(shí)測(cè)試位
杜瓦瓶容積:4L
脫氣站:獨(dú)立3站智能型樣品制備站,配置加熱爐,溫度上限400℃,配置獨(dú)立機(jī)械泵和壓力傳感器,AI觸控系統(tǒng),可智能判定樣品處理完成度
壓力檢測(cè)系統(tǒng):每個(gè)分析口配置進(jìn)口多量程壓力傳感器,軟件端可實(shí)時(shí)查看各位置壓力值(傳感器量程:0-0.1torr、0-10torr、0-1000torr),飽和蒸汽壓測(cè)試位配置獨(dú)立的壓力傳感器,對(duì)飽和蒸氣壓進(jìn)行實(shí)時(shí)采集。

 

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